宏微科技申请SiC MOSFET器件及其制备方法专利提高了芯片的电流密度
栏目:行业新闻 发布时间:2026-02-10
  国家知识产权局信息显示,江苏宏微科技股份有限公司申请一项名为“SiC MOSFET器件及其制备方法”的专利,公开号CN121368145A,申请日期

  国家知识产权局信息显示,江苏宏微科技股份有限公司申请一项名为“SiC MOSFET器件及其制备方法”的专利,公开号CN121368145A,申请日期为2025年10月。

  专利摘要显示,本发明属于SiC MOSFET器件技术领域,具体涉及一种SiC MOSFET器件及其制备方法。本发明的SiC MOSFET制备方法通过将现有的常规Pwell版、N+版和P+版三次光刻工艺简化为只有一次Pwell版工艺,其中关键的N+版改为由两次阻挡层淀积后,单独刻蚀掉第二阻挡层形成N+窗口区域,使Pwell、N+和P+之间都形成了自对准,简化了工艺流程,减小了窗口最小尺寸,可以使元胞宽度由原来的3um以上减小到2.5um以内,提高了元胞密度17%以上,提高了芯片的电流密度。

  天眼查资料显示,江苏宏微科技股份有限公司,成立于2006年,位于常州市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本21288.4185万人民币。通过天眼查大数据分析,江苏宏微科技股份有限公司共对外投资了11家企业,参与招投标项目54次,财产线条,此外企业还拥有行政许可28个。

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